日本hutech半導(dǎo)體、電子零件真空干燥機(jī)
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溫度 | 醉高180℃ | |
真空度 | 大氣壓?3.75×10 -2托 | |
真空干燥機(jī)控制器 | 醉新開(kāi)發(fā)的用于真空控制的控制器和記錄器 | |
雙腔結(jié)構(gòu) | 通過(guò)分別安裝和控制內(nèi)部?jī)?chǔ)氣罐以及每個(gè)儲(chǔ)氣罐的加熱器和風(fēng)扇,保持快速的升溫和固定的溫度分布 | |
采用雙層包裝 | 采用雙層包裝以提高真空度 | |
溶劑回收系統(tǒng) | 收集干燥過(guò)程中產(chǎn)生的水和NMP氣體等化學(xué)物質(zhì)(化學(xué)物質(zhì),細(xì)顆粒)的冷阱和過(guò)濾器,從而延長(zhǎng)真空泵的使用壽命。 | |
冷卻系統(tǒng) | 冷卻風(fēng)扇使用強(qiáng)制循環(huán)方法可以在3小時(shí)內(nèi)將溫度從120℃升高到60℃。 | |
程序模式控制 | 以所需模式對(duì)溫度,真空度和Pergr,排氣進(jìn)行程序控制 (40個(gè)模式/ 1200步) | |
容易檢查 | 采用干式真空泵(無(wú)油)和線(xiàn)圈加熱器,易于維護(hù)和維修 | |
自動(dòng)/手動(dòng)操作 | 可以進(jìn)行真空啟動(dòng),釋放真空,排氣的AUTO / MAN操作,并且在破壞真空或釋放大氣壓時(shí)可以選擇N2和AIR。 | |
12路錄音 | 溫度1CH,真空度1CH,分布圖10CH記錄 | |
簡(jiǎn)單的界面 | 觸摸屏控制器易于控制操作 |
■溫度和真空顯示類(lèi)型的控制器使創(chuàng)建程序變得容易,并允許自由模式操作。 此外,通過(guò)采用的數(shù)字記錄器,可以與控制器進(jìn)行聯(lián)鎖操作并進(jìn)行全區(qū)域記錄。 |
■內(nèi)箱門(mén)采用雙層填料,以提高附著力,從而獲得理想的真空度。 |
■通過(guò)改善溫度分布并采用溶劑回收系統(tǒng)來(lái)延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命。 |
排序 | 詳細(xì)項(xiàng)目 | 8雜志 | 16雜志 |
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烤箱容量 | 700升 | 1960升 | |
加熱器容量 | 18千瓦 | 33千瓦 | |
溫度 | 控制范圍 | RY-180℃ | |
設(shè)定寬度 | 0.1℃ | ||
分配 | ±2.0℃ | ||
上升穩(wěn)定時(shí)間 | RT-120℃:60分鐘 | ||
下降時(shí)間 | 3小時(shí) | ||
真空 | 控制范圍 | 10-3.75×10 -2托 | |
設(shè)定寬度 | 0.001托 | ||
時(shí)間穩(wěn)定 | 半小時(shí) | ||
施工 | 方法 | 雙室控制 | |
內(nèi)膽 | 利用強(qiáng)制空氣循環(huán)法利用對(duì)流熱 | ||
外箱 | 通過(guò)空調(diào)循環(huán)方式利用輻射熱 | ||
冷卻 | 冷卻風(fēng)扇強(qiáng)制循環(huán)方式 | ||
操作 | 控制者 | 觸摸屏類(lèi)型2通道(僅適用于溫度和真空) | |
錄音機(jī) | 觸摸屏類(lèi)型12通道(僅適用于溫度和真空) | ||
模式 | 自動(dòng)/手動(dòng)(溫度,真空,吹掃,排氣) | ||
安全裝置 | 水分和溶劑 | 過(guò)濾器,冷阱 | |
安全裝置 | 防止過(guò)熱(電子,機(jī)械),真空上升檢測(cè) | ||
防止鼓風(fēng)機(jī)和冰箱過(guò)載,防止真空泵和增壓器過(guò)載,其他斷路器 | |||
注意 | 蜂鳴器,警告燈,歷史記錄 | ||
維修保養(yǎng) | 真空泵 | DryType(易于附著/分離) | |
加熱器 | 線(xiàn)圈加熱器(易于安裝/拆卸) | ||
保證 | 3年,初始流程管理系統(tǒng) | ||
設(shè)備尺寸 | 內(nèi)膽 | 750(寬)x 880(深)x 1060(高) | 1600(寬)x 1020(深)x 1200(高) |
外箱 | 1330(寬)x 1840(深)x 1830(高) | 2230(寬)x 2070(深)x 2100(高) | |
電源 | 三相200V / 220VAC / 50 / 60Hz / 21KVA | 三相200V / 220VAC / 50 / 60Hz / 21KVA |
日本hutech半導(dǎo)體、電子零件真空干燥機(jī)
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