日本satovac真空設(shè)備運用實例
在電子設(shè)備、半導(dǎo)體制造設(shè)備等中使用的精密設(shè)備部件中,組裝后附著在表面的物質(zhì)有時會氣化并產(chǎn)生各種影響。認為這是因為零件加工后用純水清洗和干燥表面濕潤的液層蒸發(fā),但表面上的殘留分子氣化了,盡管數(shù)量很少,產(chǎn)生了不利影響。 . 氣化和去除附著物是提高清洗后零件表面清潔度的一種方法。通過將處理溫度提高到比干燥期間更多,粘附的物質(zhì)被活化并降低環(huán)境壓力,從而物質(zhì)可以容易地從表面分離。真空烘烤裝置實現(xiàn)了這一系列操作。因此,由于要求表面清潔度,處理溫度高,壓力低。這是清洗不能*通過清洗處理的重油的有效方法,如熱處理后的零件。
一般用于水性或有機溶劑型金屬加工零件的清洗、干燥后、重油的表面清洗,但最近也用于樹脂類產(chǎn)品的加工。
我們有制造和交付許多真空烘烤設(shè)備的記錄,我們將介紹它們的型號和特點。
如表1所示,我們提供基于方形容器的真空烘烤設(shè)備,適用于廣泛的溫度和壓力范圍。在外形尺寸方面,上限是拖車可以運輸?shù)某叽纭?/span>型號按壓力范圍(達到真空度)分為中真空范圍的DY型和高真空范圍的DH型。按溫度分類時為DY型、加熱溫度700℃以下的DH型、加熱溫度800℃~2200℃的VHF型。VHF 型具有碳或金屬(鉬、鎢)加熱器結(jié)構(gòu),與 DY 和 DH 型護套加熱器不同。
(1) 溫度和壓力設(shè)定
設(shè)備的加熱溫度和極限壓力(真空度)由被加工部件表面和被烘烤物質(zhì)所需的清潔度(氣體產(chǎn)生量)確定。加熱溫度越高,粘附物質(zhì)的表面剝離越活躍,處理時間越短。如果加工溫度受構(gòu)件耐熱溫度的限制,則極限壓力越低,加工時間越短。由于通常使用的加熱器結(jié)構(gòu),設(shè)計上限溫度為700°C,但考慮到成本,一般為500°C以下。即使可以在500°C或更高的溫度下制造,成本也會很高,因為加熱器結(jié)構(gòu)會發(fā)生變化。加熱器容量由升溫至設(shè)計溫度的速率決定。當通過PID控制升溫時,從室溫到500°C的升溫時間約為2.0到2.5小時,即使在室溫到300°C,也約為1.5到2.0小時。
(2)真空排氣系統(tǒng)的設(shè)定溫度
為300~500℃時,極限壓力(真空度)由沉積物的容許氣體產(chǎn)生量(殘留氣體量)決定。至于排氣系統(tǒng),組合取決于油箱內(nèi)達到的壓力,油旋轉(zhuǎn)泵是否足夠,如表1所示,或者是否與渦輪分子泵組合使用。
如果要避免油蒸氣的混合,以保持油箱內(nèi)的清潔度,請使用將輔助排氣泵與干式泵相結(jié)合和高真空排氣與渦輪分子泵相結(jié)合的粗抽系統(tǒng)。此外,如果罐內(nèi)的清潔條件要求嚴格,將使用低溫泵進行高真空排氣。在成本方面,僅靠油回轉(zhuǎn)泵才能實現(xiàn)罐內(nèi)壓力的范圍是便宜的。
(3) 冷卻方式
將罐內(nèi)加熱并在設(shè)定溫度下保持規(guī)定時間,冷卻至取出溫度,真空冷卻,N2氣置換,N2氣流,N2氣從視點節(jié)拍時間或加工材料質(zhì)量。您將不得不在強制循環(huán)冷卻之間進行選擇。強制循環(huán)冷卻冷卻時間短,但成本高。真空冷卻是一種廉價的方法,但冷卻時間長。冷卻時的 N2 氣導(dǎo)入時間(溫度),如 N2 氣置換和 N2 氣流量,可以在保持設(shè)定溫度后的任何時間順序排列,但從加工材料質(zhì)量的角度來看,這將作為用戶規(guī)范決定。 ..
如前所述,為了提高表面清潔度,如何氣化去除表面附著物是一種方法,可以提到真空烘烤。
我們已經(jīng)將支持溫度和壓力水平的模型商業(yè)化,但最近的趨勢是根據(jù)用戶規(guī)格將它們作為符合使用目的的定制產(chǎn)品提供,而不是按照目錄中列出的規(guī)格進行制造。確定烘烤規(guī)格(溫度、壓力)被認為是非常困難的,但由于我們有一個測試裝置(溫度~500°C,壓力x 10-4 Pa order),我們進行了樣品測試。建議規(guī)格由決定。
模型 | 溫度 | 罐內(nèi)壓力 | 罐內(nèi)尺寸 | 加熱器 | 真空排氣系統(tǒng) | 冷卻方式 | 控制系統(tǒng) |
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DY | 150℃~700℃ | × 10Pa 訂購 | W400 x H400 x D500 ~ W2000 x H1600 x D3500 | 罐內(nèi)加熱器面板 :種子加熱器 (4 或 6 面) ,Procon PID 控制 | 油回轉(zhuǎn)泵 油回轉(zhuǎn)泵 +機械增壓 | ?真空自然冷卻 ?N2置換冷卻 ?N2流動冷卻 ?N2循環(huán)冷卻 (帶水冷冷卻器和風(fēng)扇) | 自動運行 異常檢測 聯(lián)鎖 操作面 圖形面板 |
≒ 3Pa | |||||||
DH | 150℃~700℃ | × 10 -4 Pa 階 | W400 x H400 x D600 ~ W1600 x H1600 x D1800 | 罐內(nèi)加熱器面板 :種子加熱器 (4 或 6 面) ,Procon PID 控制 | 1)油旋轉(zhuǎn)泵 +渦輪分子泵 2)干泵 +渦輪分子泵 3)干泵 +低溫泵 | ||
甚高頻 | 800℃~2200℃ | × 10Pa 訂購 | φ800×L1000 ~ φ1600×L1600 (水冷夾套型) | 1) 碳加熱器 2) 金屬加熱器 (MO:鉬 W:鎢) /Procon PID 控制 | 油回轉(zhuǎn)泵 | ?真空自然冷卻 ?氬氣流冷卻 | 自動運行 異常檢測 聯(lián)鎖 操作面 圖形面板 |
≒ 3Pa | 油回轉(zhuǎn)泵 +機械增壓器 | ||||||
× 10 -3 Pa 階 | 油旋轉(zhuǎn)泵 +油擴散泵 | ||||||
× 10 -4 Pa 階 | 油回轉(zhuǎn)泵 +渦輪分子泵 |
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