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日本ATA渦輪多涂機 AT-901的特點及使用案例分析

日本ATA渦輪多涂機 AT-901的特點及使用案例分析

特征

可實現高倍率觀察所需的Cr(粉末)飛濺。
特殊的快門功能可抑制對樣品的熱損傷。
排氣泵內外無油污。

<選項>

碳涂層附件(選項)可形成碳膜
等離子清洗(主機選項)可去除有機異物和表面演化處理。

規(guī)格

濺射
直流磁控濺射
放電電壓:DC 1500V max
放電電流:DC 50mA max
目標(單獨出售)有多種靶材可供選擇,例如 Cr、Pt、Au、Au-Pd
使用的氣體空氣,氬
達到真空壓力-2Pa以下(飛濺時1Pa)
腔室尺寸φ100mm
樣品架φ50毫米
真空排氣主排氣:渦輪微型泵(內置于主體)
輔助排氣:隔膜泵(外置)
尺寸主機 360W x 417D x 380H
重量機身約 20kg
隔膜泵 4kg
電源供應AC 100V / 200V(工廠選擇) 5A
15A(碳編碼附件單獨出售)

涂層示例

◆ 不平整樣品的圖像(濾紙表面)(SEM圖像)

放大倍率 x 5,000 倍

放大倍率 x 5,000 倍

載玻片涂層樣品

◆ 涂膜顆粒度差異示例(AFM 圖像)

◆ 碳薄膜的TEM觀察圖像

在玻璃基板上蒸鍍碳,觀察因真空度的不同而產生的蒸鍍狀態(tài)的差異(TEM圖像)。
至于碳氣相沉積的狀態(tài),可以看出在0.02Pa氣氛中的顆粒比在2Pa氣氛中更細。
(放大倍數為 200,000 倍)

真空度 = 2Pa(我們的較低型號)

真空度=0.02Pa(本裝置)



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