日本ATA渦輪多涂機 AT-901的特點及使用案例分析
特征
可實現高倍率觀察所需的Cr(粉末)飛濺。
特殊的快門功能可抑制對樣品的熱損傷。
排氣泵內外無油污。
<選項>
碳涂層附件(選項)可形成碳膜
等離子清洗(主機選項)可去除有機異物和表面演化處理。
規(guī)格
濺射 法 | 直流磁控濺射 放電電壓:DC 1500V max 放電電流:DC 50mA max |
目標(單獨出售) | 有多種靶材可供選擇,例如 Cr、Pt、Au、Au-Pd |
使用的氣體 | 空氣,氬 |
達到真空壓力 | 十 |
腔室尺寸 | φ100mm |
樣品架 | φ50毫米 |
真空排氣 | 主排氣:渦輪微型泵(內置于主體) 輔助排氣:隔膜泵(外置) |
尺寸 | 主機 360W x 417D x 380H |
重量 | 機身約 20kg 隔膜泵 4kg |
電源供應 | AC 100V / 200V(工廠選擇) 5A 15A(碳編碼附件單獨出售) |
涂層示例
◆ 不平整樣品的圖像(濾紙表面)(SEM圖像)
放大倍率 x 5,000 倍
放大倍率 x 5,000 倍
載玻片涂層樣品
◆ 涂膜顆粒度差異示例(AFM 圖像)
◆ 碳薄膜的TEM觀察圖像
在玻璃基板上蒸鍍碳,觀察因真空度的不同而產生的蒸鍍狀態(tài)的差異(TEM圖像)。
至于碳氣相沉積的狀態(tài),可以看出在0.02Pa氣氛中的顆粒比在2Pa氣氛中更細。
(放大倍數為 200,000 倍)
真空度 = 2Pa(我們的較低型號)
真空度=0.02Pa(本裝置)
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