日本shinkuu等離子清洗裝置介紹

多用途樣品儲存/等離子清洗裝置 VE2030 特殊規(guī)格修改裝置

它是一種與電子顯微鏡觀察樣品相關的多用途設備，具有三種功能。
使用渦輪分子泵 (TMP) 獲得的清潔高真空作為主排氣系統，( 1)
通過用射頻激發(fā)等離子體照射和加熱來清潔樣品架。
(2) 金屬和碳在高真空氣氛中的真空沉積，以及 TEM 和 SEM 隔膜的熱清洗。
(3)電子顯微鏡樣品架和FIB裝置樣品架的真空儲存。

它是一種特殊規(guī)格的設備，配備有排氣系統序列控制、渦輪泵、隔膜泵和全量程真空計。

SEM樣品儲存裝置

為了在真空下儲存樣品和 SEM 樣品架，可以儲存大量樣品。
交換樣品時，專用交換室允許裝載和卸載樣品，而不會將儲存的樣品暴露在大氣中。

生產線

• 儲存設備

• 　TVS-40T 獨立四腔型

• 　TVS-10T腔體擴容機型

• 　SVS-100T SEM樣品專用機型

• 濺射設備

• 　MSP-40T 多用途、多目標支持

• 　兼容 MSP-20TK 鎢絲燈等

• 　MSP-20UM 通用型，全自動

• 　MSP-1S 標準型號

• 　MSP-mini φ30mm靶材，低價

• 　MSP-20MT φ100mm 通用型，全自動

• 　MSP-8in φ200mm ? Pt 鍍膜機

• 　MSP-12in φ300mm ? Pt 鍍膜機

• 鋨涂層機

• 　HPC-20 全自動寬樣臺

• 　HPC-1SW 低價，寬樣品架

• 　HPC 選項 提高功能和安全性

• 碳涂層機

• 　替換芯型碳 SLC-30

• 　VC-100S / 100W φ0.5mm 僅用于碳

• 多沉積設備

• 　VES-10碳飛濺/親水處理

• 真空蒸鍍設備

• 　VE-2030 許多選項/改造支持

• 　VE-2013 緊湊型臺式，超高速真空排氣

• 　VE-2012 緊湊型臺式，超高速真空排氣

• 　薄膜沉積設備選項

• 等離子處理設備

• 　PCU-30 樣品去污

• 　PIB-20 寬樣品臺 親水處理

• 　PIB-10 低成本親水處理

• 叔丁基凍干裝置

• 　VFD-30 全自動高性能機型

• 　VFD-21S 低價長銷機型

• 速凍裝置

• 　VFZ-101 冷凍分割工具組