在這里,我們將介紹接觸式電阻測(cè)量原理的概述(4探針?lè)ǎㄔ撛淼脑敿?xì)說(shuō)明在材料中)。
(*對(duì)于我們的產(chǎn)品,還有一個(gè)系統(tǒng)會(huì)根據(jù)電阻范圍使用不同的測(cè)量方法。)
四探針?lè)ㄖ饕糜诮佑|式情況,可以測(cè)量1E-3(1m)到1E + 9(1G)Ω/□電阻范圍。
這種測(cè)量方法是在廣泛領(lǐng)域中測(cè)量電阻的基礎(chǔ)。
●在四探針?lè)ㄖ校瑢凑找韵虏襟E進(jìn)行測(cè)量。
(1)將四個(gè)針狀電極直線地放在測(cè)量樣品上。
(2)兩個(gè)外部探頭之間流過(guò)恒定電流。
(3)通過(guò)測(cè)量?jī)蓚€(gè)內(nèi)部探針之間的電位差來(lái)計(jì)算電阻。
如下圖所示,相同的測(cè)量原理用于電阻和薄層電阻的測(cè)量。
我們的4探針測(cè)量系統(tǒng)是符合JIS和ASTM標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)量方法和校正方法,已被用作行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量系統(tǒng),尤其受到硅相關(guān)用戶的信賴。我會(huì)。
另外,關(guān)于可追溯性,我們使用符合NIST(美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院)標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)樣品作為設(shè)備校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn),進(jìn)行認(rèn)真的裝運(yùn)前檢驗(yàn)。
* 4探針?lè)ê?ldquo; 4端子法”的測(cè)量原理相同,唯1的不同是與樣品接觸的電極部分的形狀不同。4探針的針距為1 mm =測(cè)量點(diǎn):大約3 mm,與4端子探針相比,可以在非常小的點(diǎn)上進(jìn)行測(cè)量。另外,如在四端子法中一樣,通過(guò)消除在樣品上形成電極的需要可以提高工作效率。
此外,納普森的4針電阻測(cè)量設(shè)備符合日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(JIS)和美國(guó)材料測(cè)試協(xié)會(huì)(ASTM)設(shè)定的以下標(biāo)準(zhǔn)。
日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
JIS H 0602-1995
硅單晶和硅晶片的四探針?lè)娮铚y(cè)量方法
JIS K 7194-1994
導(dǎo)電塑料四探針?lè)娮铚y(cè)試方法
美國(guó)材料試驗(yàn)學(xué)會(huì)
ASTM F 84-99(SEMI MF84)
用在線四點(diǎn)探針測(cè)量硅晶片電阻率的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
ASTM F 374-00a
使用單配置程序的在線四點(diǎn)探針對(duì)硅外延層,擴(kuò)散層,多晶硅層和離子注入層的薄層電阻的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
ASTM F 390-11
帶共線四探針陣列的金屬薄膜的薄層電阻的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
ASTM F 1529-97
雙重配置程序的直插式四點(diǎn)探針的薄層電阻均勻性評(píng)估的標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方法
日本napson4探針?lè)y(cè)量?jī)x
測(cè)量?jī)x:RT-70V>
<測(cè)量階段>
*根據(jù)目的和用途,可以從以下選擇測(cè)量階段。
測(cè)量目標(biāo)
測(cè)量尺寸
*組合測(cè)量取決于舞臺(tái)類型。
圓形:?300mm(12英寸),方形:?730x920mm,可廣泛使用。
測(cè)量范圍
[電阻(電阻率)]1μ?300kΩ? cm
[板電阻] 5m?10MΩ/ sq
測(cè)量?jī)x:RT-70V>
<測(cè)量階段>
*根據(jù)目的和用途,可以從以下選擇測(cè)量階段。
測(cè)量目標(biāo)
測(cè)量尺寸
*組合測(cè)量取決于舞臺(tái)類型。
圓形:?300mm(12英寸),方形:?730x920mm,可廣泛使用。
測(cè)量范圍
[電阻(電阻率)]1μ?300kΩ? cm
[板電阻] 5m?10MΩ/ sq
日本napson4探針?lè)y(cè)量?jī)x
深圳市秋山貿(mào)易有限公司版權(quán)所有 地址:深圳市龍崗區(qū)龍崗街道新生社區(qū)新旺路和健云谷2棟B座1002